日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置

日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置
簡易型用于硅片及化合物半導體晶圓表面/側(cè)面納米級金屬污染物的半自動微量回收

產(chǎn)品型號：SC-9200
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2025-12-31
訪問量：13

立即咨詢

聯(lián)系電話：13823182047

詳細介紹

日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置

SC-9200 簡易型微量金屬污染物回收裝置

用于硅片及化合物半導體晶圓表面/側(cè)面納米級金屬污染物的半自動微量回收
也可擴展至 GaAs、SiC、GaN 等化合物襯底

二、核心功能

功能	說明
自動保持具清洗	回收液槽與吸頭每次循環(huán)自動沖洗，消除交叉污染
上吸式液回收	通過負壓將取樣液精確吸回，殘留量 < 1 µL
多種取樣圖形	標配：環(huán)狀、扇形、固定半徑、弧段；可選：側(cè)面（倒角）、矩形、弓形
全自動流程	①裝夾 → ②供液 → ③取樣 → ④回收 → ⑤清洗，一鍵完成
高潔凈設計	整機可置于潔凈臺（Clean Draft）內(nèi)使用；與晶圓接觸部分 PFA/PTFE 材質(zhì)

三、技術(shù)參數(shù)

項目	規(guī)格
適用晶圓	2–8 inch（可兼容缺口/平邊）
取樣面積	最小 Φ 1 mm 環(huán)帶，全表面
回收液體積	50–500 µL（可調(diào)，閉環(huán)體積校準）
取樣時間	典型 30 s/片（含清洗）
電源	AC 100–240 V 50/60 Hz 200 W
公用介質(zhì)	純水（DIW）、氮氣（N?）、潔凈空氣（CDA）
外形/重量	690 × 550 × 790 mm / 55 kg
控制方式	外接 PC（Windows），圖形界面；可導出 CSV/Excel

SC-3100通過連接 PC 創(chuàng)建多種取樣模式，可從硅片表面及側(cè)面（倒角部）回收微量金屬污染。幾乎不需要外部資源，也不占空間，設備導入門檻低。機械作業(yè)，無需操作者熟練，任何人都能輕松采樣。采樣藥液供給與保持具移動由裝置自動完成，與 SC-2000 相比，可進一步減少人員污染。SC-8150具備從親水狀態(tài)晶圓回收污染的功能，除硅片外，也可對表面粗糙的體蝕刻晶圓等材質(zhì)進行采樣。對晶圓狀態(tài)和藥液種類的限制放寬，除重金屬外，還可回收其他離子。當然，傳統(tǒng)的疏水采樣同樣支持。SC-9100具備從親水狀態(tài)晶圓回收污染的功能，除硅片外，也可對表面粗糙的體蝕刻晶圓等材質(zhì)進行采樣。對晶圓狀態(tài)和藥液種類的限制放寬，除重金屬外，還可回收其他離子。當然，傳統(tǒng)的疏水采樣同樣支持。采樣藥液供給與保持具移動由裝置自動完成，與 SC-8150 相比，可進一步減少人員污染。

留言詢價

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細地址：
補充說明：
驗證碼：

請輸入計算結(jié)果（填寫阿拉伯數(shù)字），如：三加四=7

上一篇：SC-9200晶圓納米級金屬污染物半自動微量回收裝置
下一篇：SX10日本mitsuiec 實驗室高速旋轉(zhuǎn)混合均質(zhì)機

日本nasgiken硅片晶圓表面金屬污染回收裝置

二、核心功能

三、技術(shù)參數(shù)

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：

二、核心功能