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日本fujimfg高硬度高純度碳化硅研磨材料

日本fujimfg高硬度高純度碳化硅研磨材料
主含量≥97%，雜質(zhì)控制嚴格
粒度覆蓋廣：從粗磨（#16，約1mm）到精拋（#2000，約6.7μm）
粒徑分布精確：微粉級產(chǎn)品提供明確的公差范圍，適合精密加工

產(chǎn)品型號：16~220
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2026-02-03
訪問量：61

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詳細介紹

日本fujimfg高硬度高純度碳化硅研磨材料

產(chǎn)品名稱

フジランダムＣ（Fuji Random C）—— 一種以碳化硅（SiC）為主要成分的研磨材料

化學成分（Chemical Composition）

成分	規(guī)格值（重量%）
SiC（碳化硅）	≥97.0%
Fe?O?（三氧化二鐵/氧化鐵）	≤0.50%
FC（固定碳/游離碳）	≤0.50%

※注：粒度 #240～#3000 的 SiC 規(guī)格值為 ≥92.0%

一般研磨材粒度與中心粒徑（Coarse Abrasives）

粒度	中心粒徑范圍
#16	1400～1000 μm
#20	1180～850 μm
#24	850～600 μm
#30	710～500 μm
#36	600～425 μm
#46	425～300 μm
#60	300～212 μm
#80	212～150 μm
#100	150～106 μm
#120	125～90 μm
#150	106～63 μm
#180	90～53 μm
#220	75～45 μm

微粉研磨材粒度規(guī)格（Fine/Micron Abrasives）

粒度	最大粒子徑	平均粒徑（中心值±公差）
#240	≤127.0 μm	57.0 ± 3.0 μm
#280	≤112.0 μm	48.0 ± 3.0 μm
#320	≤98.0 μm	40.0 ± 2.5 μm
#400	≤75.0 μm	30.0 ± 2.0 μm
#600	≤53.0 μm	20.0 ± 1.5 μm
#800	≤38.0 μm	14.0 ± 1.0 μm
#1000	≤32.0 μm	11.5 ± 1.0 μm
#1200	≤27.0 μm	9.5 ± 0.8 μm
#1500	≤23.0 μm	8.0 ± 0.6 μm
#2000	≤19.0 μm	6.7 ± 0.6 μm

主要應(yīng)用領(lǐng)域

基于產(chǎn)品特性（高純度SiC、可控粒度），該研磨材主要用于：

半導體硅片的研磨與拋光
光學玻璃的精密研磨
陶瓷材料加工
硬質(zhì)合金表面處理
石材/耐火材料研磨
汽車零件表面處理

產(chǎn)品特點總結(jié)

高純度碳化硅：主含量≥97%，雜質(zhì)控制嚴格
粒度覆蓋廣：從粗磨（#16，約1mm）到精拋（#2000，約6.7μm）
粒徑分布精確：微粉級產(chǎn)品提供明確的公差范圍，適合精密加工

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產(chǎn)品名稱

化學成分（Chemical Composition）

一般研磨材粒度與中心粒徑（Coarse Abrasives）

微粉研磨材粒度規(guī)格（Fine/Micron Abrasives）

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