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日本jeol 金屬陶瓷芯片研磨冷卻截面拋光儀

日本jeol 金屬陶瓷芯片研磨冷卻截面拋光儀
截面拋光儀™ (CP) 是為電子顯微鏡觀察制備截面試樣的設(shè)備。
通過離子束加工試樣截面，相比需要經(jīng)驗的研磨等其他方法，能夠在短時間內(nèi)獲得無個體差異的高質(zhì)量截面。

產(chǎn)品型號：IB-19550CCP
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2026-01-19
訪問量：10

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詳細(xì)介紹

日本jeol 金屬陶瓷芯片研磨冷卻截面拋光儀

IoT截面拋光儀™誕生

IB-19540CP 截面拋光儀™ / IB-19550CCP 冷卻截面拋光儀™

截面拋光儀™ (CP) 是為電子顯微鏡觀察制備截面試樣的設(shè)備。

通過離子束加工試樣截面，相比需要經(jīng)驗的研磨等其他方法，能夠在短時間內(nèi)獲得無個體差異的高質(zhì)量截面。

IB-19540CP/IB-19550CCP通過全新GUI和IoT化，使操作和狀態(tài)確認(rèn)更加便捷；通過高吞吐量離子源和高吞吐量冷卻系統(tǒng)，能夠在短時間內(nèi)制備平滑的截面。

主要特點(diǎn)

1. 全新GUI與IoT化 - 追求易用性的操作界面和遠(yuǎn)程控制

直觀操作：采用新GUI，操作步驟更加清晰易懂
流程化設(shè)置：可按照流程圖設(shè)定加工條件
預(yù)設(shè)功能：可保存和調(diào)用適合不同試樣的加工條件
網(wǎng)絡(luò)連接：通過網(wǎng)絡(luò)連接，可通過Web瀏覽器訪問CP
遠(yuǎn)程管理：可在遠(yuǎn)離設(shè)備的地方確認(rèn)和操作多臺設(shè)備的加工狀態(tài)

2. 高吞吐量離子源 - 標(biāo)準(zhǔn)加工速率1,200 μm/h以上

性能提升：通過優(yōu)化離子源電極和提高加速電壓，配備離子電流密度更高的高吞吐量離子源
標(biāo)準(zhǔn)配置：這是設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)配置，非選配
加工效率：在10 keV離子能量、1小時加工條件下，使用硅晶圓試樣可達(dá)到優(yōu)異效果

3. 高吞吐量冷卻系統(tǒng) - 冷卻和恢復(fù)常溫的自動化

全自動流程：從冷卻到恢復(fù)常溫的全過程可自動完成
智能冷卻管理：

可在-120°C下進(jìn)行8小時加工
通過插入/拔出冷卻導(dǎo)體控制冷卻溫度，抑制液氮消耗
加入液氮狀態(tài)下可直接進(jìn)行試樣交換

真空排氣功能：可從設(shè)備側(cè)對液氮罐周圍進(jìn)行真空排氣，維持冷卻保持時間和試樣冷卻溫度

產(chǎn)品優(yōu)勢

技術(shù)突破

IoT集成：業(yè)界支持IoT的截面拋光設(shè)備
智能化操作：通過Web界面實現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控和操作
高效加工：標(biāo)準(zhǔn)加工速率達(dá)1,200 μm/h以上
節(jié)能冷卻：智能冷卻系統(tǒng)顯著降低液氮消耗

用戶體驗

操作簡化：新GUI大幅降低操作門檻
遠(yuǎn)程管理：支持多設(shè)備集中管理
條件標(biāo)準(zhǔn)化：預(yù)設(shè)功能確保加工一致性
時間效率：快速冷卻和加工縮短整體制備時間

應(yīng)用領(lǐng)域

材料科學(xué)：金屬、陶瓷、復(fù)合材料等截面制備
半導(dǎo)體工業(yè)：芯片、器件截面分析
生物樣品：生物組織、細(xì)胞等軟材料截面
納米技術(shù)：納米材料結(jié)構(gòu)表征
失效分析：產(chǎn)品缺陷和失效機(jī)理研究

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日本jeol 金屬陶瓷芯片研磨冷卻截面拋光儀

主要特點(diǎn)

1. 全新GUI與IoT化 - 追求易用性的操作界面和遠(yuǎn)程控制

2. 高吞吐量離子源 - 標(biāo)準(zhǔn)加工速率1,200 μm/h以上

3. 高吞吐量冷卻系統(tǒng) - 冷卻和恢復(fù)常溫的自動化

產(chǎn)品優(yōu)勢

技術(shù)突破

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