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您的位置：首頁(yè) / 產(chǎn)品展示 / 傳熱設(shè)備 / 加熱器 / HOT-N2 UNITTaiseigiken半導(dǎo)體小型高氣密性氣體加熱器

Taiseigiken半導(dǎo)體小型高氣密性氣體加熱器

Taiseigiken半導(dǎo)體小型高氣密性氣體加熱器
HOT-N2 UNIT 通過(guò)“加熱氮?dú)?這一簡(jiǎn)單動(dòng)作，即可抑制排氣中的反應(yīng)生成物（微粉末），縮短 cryo 再生時(shí)間，并加速真空干燥，顯著減少維護(hù)工時(shí)，提升產(chǎn)能。

產(chǎn)品型號(hào)：HOT-N2 UNIT
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
更新時(shí)間：2026-01-05
訪問(wèn) 量：112

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Taiseigiken半導(dǎo)體小型高氣密性氣體加熱器

HOT-N2 UNIT 通過(guò)“加熱氮?dú)?這一簡(jiǎn)單動(dòng)作，即可抑制排氣中的反應(yīng)生成物（微粉末），縮短 cryo 再生時(shí)間，并加速真空干燥，顯著減少維護(hù)工時(shí)，提升產(chǎn)能。

照片左／HNH-1
照片右／HNH-C-SI-1

HOT-N2 UNIT 是什么？

對(duì)真空腔體、真空泵及排氣管道內(nèi)的 N? 進(jìn)行“潔凈?極速?高溫"注入的在線加熱裝置。

渦流注入機(jī)是什么？

獨(dú)特接頭內(nèi)部采用渦流結(jié)構(gòu)，讓 HOT-N? 的高溫層在管道內(nèi)保持更長(zhǎng)時(shí)間，提高抑制效率。

系統(tǒng)配置 ①（半導(dǎo)體 / 液晶工廠　微粉抑制）

用途

防止蝕刻、CVD、ALD、離子注入等排氣管道因反應(yīng)生成物而堵塞
抑制粉體 Trap（TraPac）下游管道的粉末堆積
避免干式真空泵轉(zhuǎn)子等部位因生成物堆積而卡死
阻止 TMP 出口管路因反應(yīng)生成物堵塞

特點(diǎn)

cartridge 加熱器方案，壽命更長(zhǎng)
超高氣密 ≤1×10?1? Pa·m2/sec
小型化設(shè)計(jì)，狹窄空間也能輕松安裝

系統(tǒng)配置 ②（Cryo 再生時(shí)間縮短）

用途

大幅縮短 cryo 泵的再生周期

特點(diǎn)

cryo 泵專(zhuān)用加熱器，小巧輕便
安裝簡(jiǎn)單，支持特殊規(guī)格定制
已做安全隔熱處理，可安心使用

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Taiseigiken半導(dǎo)體小型高氣密性氣體加熱器

HOT-N2 UNIT 是什么？

渦流注入機(jī)是什么？

系統(tǒng)配置 ①（半導(dǎo)體 / 液晶工廠 微粉抑制）

系統(tǒng)配置 ②（Cryo 再生時(shí)間縮短）

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渦流注入機(jī)是什么？

系統(tǒng)配置 ①（半導(dǎo)體 / 液晶工廠　微粉抑制）