日本yamada山田光學光掩膜缺陷鹵素檢查燈
日本yamada山田光學光掩膜缺陷鹵素檢查燈

1. 試樣表面照度 ≥ 400 000 lx
2. 鹵素燈色溫高，光斑銳利、照明均勻且穩(wěn)定
3. 采用冷光鏡，熱輻射僅為傳統(tǒng)鋁鏡的 1/3，樣品溫升極小
4. 兩段亮度切換機構，一鍵實現(xiàn)高照度/低照度觀察
• YP-150I：照射范圍 φ30 mm
• YP-250I：照射范圍 φ60 mm（可選軸流風扇型或管道風扇型）

1. 光學性能
• 中心照度：≥ 400 000 lx（照射區(qū) φ60 mm）
• 可識別粒子：0.2 μm 級（取決于操作者與環(huán)境）
• 色溫：3 200 K 鹵素燈，顯色指數(shù) Ra≈100，缺陷與底色對比度高
• 冷光鏡 + 二向色濾熱片，紅外輻射量 ≤ 傳統(tǒng)鋁鏡 1/3，樣品溫升 < +2 ℃（30 s 照射）
2. 亮度控制
• 2 段切換：高照度（HI）/低照度（LO）一鍵切換，無需關燈換檔
• 調(diào)光范圍：20 %–100 % 連續(xù)可調(diào)（選配外部調(diào)光器）
3. 機型與散熱
• YP-250I/AF：軸流風扇型，頂部排熱，適合層流罩內(nèi)單機使用
• YP-250I/DF：管道風扇型，可外接 ?100 mm 風管，將熱排至下技術夾層，滿足 ISO 5（100 級）以上區(qū)域

1. 典型應用
• 12-300 mm 半導體晶圓：劃痕、霧斑 (Haze)、Slip、研磨痕、CMP 殘留
• 液晶面板：玻璃基板劃傷、顆粒污染、ITO 成膜缺陷
• 掩模版、光掩膜：鉻膜缺陷、微粒檢查

高亮度鹵素光源裝置是潔凈室內(nèi)半導體晶圓表面品質管理的工具，憑借高照度照明，可識別表面小至 0.2 μm 的微小顆粒。