日本shinkuu實驗室自動涂布機磁控濺射裝置

日本shinkuu實驗室自動涂布機磁控濺射裝置
只需按下按鈕即可自動進行涂層處理，無需復(fù)雜操作，適合實驗室和研發(fā)用途。
成本效益高：采用小型靶材（直徑32毫米），降低了運行成本。標(biāo)準(zhǔn)配置的金靶材和可選的銀靶材均具有較高的性價比。

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日本shinkuu實驗室自動涂布機磁控濺射裝置
日本shinkuu實驗室自動涂布機磁控濺射裝置

操作簡便：只需按下按鈕即可自動進行涂層處理，無需復(fù)雜操作，適合實驗室和研發(fā)用途。
成本效益高：采用小型靶材（直徑32毫米），降低了運行成本。標(biāo)準(zhǔn)配置的金靶材和可選的銀靶材均具有較高的性價比。
小型化設(shè)計：裝置體積小巧，便于放置和使用，適合空間有限的實驗室環(huán)境。
多功能性：附帶的金靶材適用于低倍率觀察用桌面掃描電子顯微鏡（SEM）的導(dǎo)電前處理，而可選的銀靶材則適用于透明材料表面的光學(xué)顯微鏡觀察，滿足多種實驗需求。
高真空性能：配備旋轉(zhuǎn)泵，能夠達到較高的真空度，確保濺射過程的穩(wěn)定性和涂層質(zhì)量。

導(dǎo)電涂層制備：在非導(dǎo)電樣品表面沉積一層導(dǎo)電材料（如金），使其能夠用于掃描電子顯微鏡（SEM）等需要導(dǎo)電樣品的分析儀器。
光學(xué)薄膜制備：利用銀靶材等制備具有優(yōu)良光學(xué)性能的薄膜，用于透明材料表面的光學(xué)顯微鏡觀察或其他光學(xué)應(yīng)用。
材料研究：用于制備各種薄膜材料，研究薄膜的物理、化學(xué)和光學(xué)性質(zhì)，探索新材料的性能和應(yīng)用前景。
納米技術(shù)應(yīng)用：在納米材料的制備和研究中，通過濺射技術(shù)沉積納米尺度的薄膜，用于制造納米器件或研究納米結(jié)構(gòu)的特性。
表面改性：對材料表面進行改性，提高其耐磨性、耐腐蝕性或改善其表面性能，以滿足特定的應(yīng)用需求。

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