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日本filgen碳鍍膜機(jī)涂層系統(tǒng)快速響應(yīng)高性能 11427-AB ●節(jié)省空間/臺(tái)式濺射鍍膜機(jī) ●快速鍍膜（金鍍層在 20 秒內(nèi)電流可達(dá) 200A）——對(duì)樣品無(wú)熱損傷。 ●可濺射/蝕刻 ●可以通過(guò)移動(dòng)樣品臺(tái)來(lái)調(diào)整到目標(biāo)的距離。 ●惰性氣體 - 輸入/輸出端口/可進(jìn)行樣品臺(tái)冷卻 ●提供各種靶材（Au、Au/Pd、Pt、Pd、Ag）（可選）

日本filgen濺射鍍膜機(jī)帶蝕刻模式無(wú)熱損傷 12151-AB/12151E-AB ●節(jié)省空間/臺(tái)式濺射鍍膜機(jī) ●快速鍍膜（金鍍層在 20 秒內(nèi)電流可達(dá) 200A）——對(duì)樣品無(wú)熱損傷。 ●可濺射/蝕刻 ●可以通過(guò)移動(dòng)樣品臺(tái)來(lái)調(diào)整到目標(biāo)的距離。 ●惰性氣體 - 輸入/輸出端口/可進(jìn)行樣品臺(tái)冷卻 ●提供各種靶材（Au、Au/Pd、Pt、Pd、Ag）（可選）

日本filgen去除有機(jī)污染物UV臭氧清洗儀進(jìn)口 UV253MINI UV253MINI是一種通過(guò)UV（紫外線）和臭氧的協(xié)同作用去除有機(jī)污染物的UV臭氧凈化器。 通過(guò)有機(jī)溶劑清洗或超聲波清洗等，可除去濕式清洗無(wú)法除去的有機(jī)污染物質(zhì)。 UV燈具有兩個(gè)短波長(zhǎng)，即184.9nm產(chǎn)生臭氧效果高，253.7nm促進(jìn)臭氧活化。

日本Filgen紫外臭氧有機(jī)溶劑超聲波清洗儀 UV253V8/UV253V8R ●單獨(dú)使用超聲波清洗無(wú)法去除的基材上的有機(jī)污染物可以輕松去除。 ●濕法清洗中使用的有機(jī)溶劑也被去除。 ●可以在不損壞基材表面的情況下去除有機(jī)污染物。 ●LB膜的堆積變得容易。（累計(jì)率將大幅提升。） ●一種可在常壓下使用且不需要真空裝置的干洗設(shè)備。

日本進(jìn)口filgen等離子鍍膜機(jī)EVO涂層多功能 OPC60A 這是一種以SEM樣品為主的導(dǎo)電性薄膜的制造裝置，采用“利用直流輝光放電的負(fù)輝光相區(qū)域的等離子膜制造方法”。

日本Filgen等離子鍍膜機(jī)用于導(dǎo)電性薄膜裝置 OPC60A/OPC80T 電子顯微鏡試樣用導(dǎo)電性薄膜制作裝置等離子體涂布機(jī) ◆膜專(zhuān)用型（OPC60A） ◆膜/等離子體聚合膜雙用型（OPC80T） ◆導(dǎo)電性超薄膜制膜機(jī)構(gòu) ◆親水化處理機(jī)構(gòu) ◆深型試樣機(jī)構(gòu) ◆可選消耗品

日本DIC酸、堿、有機(jī)溶劑等液體脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE，接觸液體部全部為氟樹(shù)脂制的脫氣模組?？蛇M(jìn)行酸、堿、有機(jī)溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導(dǎo)體、LCD制造過(guò)程中使用液體的脫氣、除泡（各種抗蝕劑、稀釋劑、化學(xué)制劑等） 溶劑型噴墨墨水的脫氣

日本DIC用于半導(dǎo)體/化學(xué)制劑等脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE，接觸液體部全部為氟樹(shù)脂制的脫氣模組?？蛇M(jìn)行酸、堿、有機(jī)溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導(dǎo)體、LCD制造過(guò)程中使用液體的脫氣、除泡（各種抗蝕劑、稀釋劑、化學(xué)制劑等） 溶劑型噴墨墨水的脫氣